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中科院分區(qū): 不限 1區(qū) 2區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

期刊收錄: 不限 SCI SCIE

Metrology And Measurement Systems

Metrology And Measurement Systems封面

簡稱:METROL MEAS SYST

ISSN:0860-8229

ESSN:0860-8229

研究方向:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION

所屬分區(qū):4區(qū)

出版地:Poland

出版周期:Quarterly

創(chuàng)刊時間:1988

Metrology And Measurement Systems英文簡介

Contributions are invited on all aspects of the research, development and applications of the measurement science and technology.

The list of topics covered includes: theory and general principles of measurement; measurement of physical, chemical and biological quantities; medical measurements; sensors and transducers; measurement data acquisition; measurement signal transmission; processing and data analysis; measurement systems and embedded systems; design, manufacture and evaluation of instruments.

The average publication cycle is 6 months.

Metrology And Measurement Systems中文簡介

《Metrology And Measurement Systems》是一本由Polish Academy of Sciences, Committee on Metrology and Scientific Instrumentation出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊,該刊創(chuàng)刊于1988年,刊期Quarterly,該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。在中科院最新升級版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科:工程技術(shù) 4區(qū),小類學(xué)科:儀器儀表 4區(qū);在JCR(Journal Citation Reports)分區(qū)等級為Q4。該刊發(fā)文范圍涵蓋儀器儀表等領(lǐng)域,旨在及時、準確、全面地報道國內(nèi)外儀器儀表工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等,促進學(xué)術(shù)交流,鼓勵學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為1.009,平均審稿速度較慢,6-12周。

中科院分區(qū)最新升級版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 4區(qū)

中科院分區(qū)最新基礎(chǔ)版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 儀器儀表 4區(qū)

中科院JCR分區(qū)歷年趨勢圖

JCR分區(qū)(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021-2022年最新版)

JCR分區(qū)等級 JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
Q4 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION Q4 1.009

期刊指數(shù)

影響因子 h-index Gold OA文章占比 研究類文章占比 OA開放訪問 平均審稿速度
1.009 24 0.00% 98.00% 開放 較慢,6-12周

IF值(影響因子)趨勢圖