真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)是ei嗎

　　真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)不是ei。《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)》創(chuàng)刊于1981年，是由中國(guó)科學(xué)技術(shù)協(xié)會(huì)主管、中國(guó)真空學(xué)會(huì)主辦、北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司承辦、蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司副承辦的信息科技學(xué)術(shù)期刊。

　　報(bào)道的主要內(nèi)容：真空科學(xué)與技術(shù)、薄膜物理與工藝、表面與界面物理、應(yīng)用表面科學(xué)、物理電子學(xué)、電子材料及處理、納米科學(xué)與技術(shù)、電真空技術(shù)、核真空技術(shù)及真空冶金等。

　　主要欄目有學(xué)術(shù)論文、綜述評(píng)論、技術(shù)交流、工業(yè)研究與應(yīng)用。

　　稿件要求��

　　1、文稿務(wù)必立論明確，論證嚴(yán)謹(jǐn)，數(shù)據(jù)可靠，文字精練。特約稿、綜述論文一般8 000字以內(nèi)，學(xué)術(shù)論文6 000字以內(nèi)，技術(shù)交流4000字以內(nèi)，科技簡(jiǎn)訊2 000字以內(nèi)，來(lái)稿請(qǐng)?zhí)詈弥袌D分類號(hào)。��

　　2、文稿要求用A4紙單面1.5倍行間距，小四號(hào)字體，來(lái)稿時(shí)，請(qǐng)附上作者中聯(lián)系人、聯(lián)系電話和電子信箱地址。投稿務(wù)必使用word2003版本，高版本word會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)無(wú)法進(jìn)行文稿重復(fù)率檢測(cè)。

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　　3、稿件請(qǐng)按本刊格式整理，除正文以外，要同時(shí)給出中、英文的篇名、作者姓名和工作單位、論文摘要300字左右、關(guān)鍵詞4～6個(gè)，參見(jiàn)“關(guān)于在學(xué)術(shù)論文中規(guī)范關(guān)鍵詞選擇的決定”。摘要應(yīng)反映文章的主要信息，包括目的、方法、結(jié)果和結(jié)論四要素。

　　4、凡漢語(yǔ)拼音、名詞術(shù)語(yǔ)、物理量符號(hào)、單位符號(hào)、項(xiàng)目圖形符號(hào)及文字代號(hào)等書(shū)寫(xiě)應(yīng)貫徹相應(yīng)的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。外文字母的大小寫(xiě)、正斜體、黑白體、上下角標(biāo)等要標(biāo)識(shí)清楚，矢量和張量采用黑斜體。��

　　5、文中圖與表格應(yīng)在相應(yīng)位置給出，圖、表應(yīng)清晰，并給出中、英文對(duì)照的圖題和表題。圖的標(biāo)目和圖中說(shuō)明文字一律用英文標(biāo)注。如有照片，請(qǐng)用黑白照片，不用彩色照片。

　　6、文中使用他人成果，務(wù)必標(biāo)明并在文后參考文獻(xiàn)中列出細(xì)目。本刊參考文獻(xiàn)采用順序編碼制，書(shū)寫(xiě)格式按GB/T3179-92要求：��

　　[期刊] 序號(hào) 著者(3人以內(nèi)全部列出，超出3人，只標(biāo)前3人，后加“等”或“et al.”).題目，刊名，出版年，卷號(hào)(期號(hào))：頁(yè)次��

　　[書(shū)] 序號(hào) 著者(要求同期刊).書(shū)名.版本(第一版略).出版地：出版者，出版年：頁(yè)次��

　　[會(huì)議錄，論文集] 序號(hào) 著者(要求同期刊).見(jiàn)(In)：整本文獻(xiàn)的編者姓名ed.(多編者用eds.) 文集名，會(huì)議名，會(huì)址，開(kāi)會(huì)年，出版地：出版者，出版年：頁(yè)次��

　　[專利文獻(xiàn)] 序號(hào) 專利申請(qǐng)者.專利題名.分類號(hào).專利國(guó)別，專利批準(zhǔn)號(hào)，批準(zhǔn)日期��