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期刊收錄: 不限 SCI SCIE

Ieee Photonics Journal

Ieee Photonics Journal封面

簡稱:IEEE PHOTONICS J

ISSN:1943-0655

ESSN:1943-0655

研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - OPTICS

所屬分區(qū):3區(qū)

出版地:UNITED STATES

出版周期:6 issues/year

創(chuàng)刊時間:2009

Ieee Photonics Journal英文簡介

Breakthroughs in the generation of light and in its control and utilization have given rise to the field of Photonics, a rapidly expanding area of science and technology with major technological and economic impact. Photonics integrates quantum electronics and optics to accelerate progress in the generation of novel photon sources and in their utilization in emerging applications at the micro and nano scales spanning from the far-infrared/THz to the x-ray region of the electromagnetic spectrum. IEEE Photonics Journal is an online-only journal dedicated to the rapid disclosure of top-quality peer-reviewed research at the forefront of all areas of photonics. Contributions addressing issues ranging from fundamental understanding to emerging technologies and applications are within the scope of the Journal. The Journal includes topics in: Photon sources from far infrared to X-rays, Photonics materials and engineered photonic structures, Integrated optics and optoelectronic, Ultrafast, attosecond, high field and short wavelength photonics, Biophotonics, including DNA photonics, Nanophotonics, Magnetophotonics, Fundamentals of light propagation and interaction; nonlinear effects, Optical data storage, Fiber optics and optical communications devices, systems, and technologies, Micro Opto Electro Mechanical Systems (MOEMS), Microwave photonics, Optical Sensors.

Ieee Photonics Journal中文簡介

《Ieee Photonics Journal》是一本由IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC出版商出版的專業(yè)工程技術(shù)期刊,該刊創(chuàng)刊于2009年,刊期6 issues/year,該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。在中科院最新升級版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科:工程技術(shù) 3區(qū),小類學(xué)科:光學(xué) 3區(qū);物理:應(yīng)用 3區(qū);工程:電子與電氣 4區(qū);在JCR(Journal Citation Reports)分區(qū)等級為Q3。該刊發(fā)文范圍涵蓋工程:電子與電氣等領(lǐng)域,旨在及時、準(zhǔn)確、全面地報道國內(nèi)外工程:電子與電氣工作者在該領(lǐng)域取得的最新研究成果、工作進展及學(xué)術(shù)動態(tài)、技術(shù)革新等,促進學(xué)術(shù)交流,鼓勵學(xué)術(shù)創(chuàng)新。2021年影響因子為2.25,平均審稿速度約1.0個月。

中科院分區(qū)最新升級版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新升級版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)最新基礎(chǔ)版(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021年12月最新基礎(chǔ)版)

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

中科院JCR分區(qū)歷年趨勢圖

JCR分區(qū)(當(dāng)前數(shù)據(jù)版本:2021-2022年最新版)

JCR分區(qū)等級 JCR所屬學(xué)科 分區(qū) 影響因子
Q3 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q3 2.25
PHYSICS, APPLIED Q3
OPTICS Q3

期刊指數(shù)

影響因子 h-index Gold OA文章占比 研究類文章占比 OA開放訪問 平均審稿速度
2.25 59 98.47% 99.79% 開放 約1.0個月

IF值(影響因子)趨勢圖